消息，近日有外媒报导称之为中国员工盗取荷兰公司阿斯麦（ASML Holding N.V）商业机密并泄漏给中国政府，ASML就是此前中芯国际出售1.2亿美元EUV光刻机的卖方，完全是中芯国际2017年的全部净利润，“ASML中国员工窃密”一事也获得了半导体行业的普遍注目。图片来自ASML官网窃密事件总结(公众号：)了解到，消息出自于荷兰一家当地媒体（Financieele Dagblad），该媒体报道称之为，几名中国籍雇员从ASML的美国子公司盗取商业机密，造成ASML亏损数亿美元。
涉及报导认为，这些中国籍雇员是ASML公司研发部员工，有采访ASML美国圣何塞分公司内部网络的许可权，他们利用职务之之后盗取了设备的源代码、软件、公司定价策略和供内部用于的设备手册，并将信息传送给ASML的竞争对手XTAL公司。那么，XTAL否知道盗取ASML商业机密了呢？起码从法院裁决来看，显然是这样。2018年11月，ASML公司以“伪造商业机密”为由将XTAL告上法庭，法院月判决，XTAL必需向ASML缴纳2.33亿美元的赔偿金，然而一个月后，XTAL公司即申请人倒闭。
XTAL于2014年在美国硅谷正式成立，虽然正式成立时间比ASML晚了十几年，但是由于ASML一家独大的市场地位，客户还是期望有几家公司同时竞争，比如三星就是XTAL的客户，不过似乎XTAL未能突破ASML的技术特商业壁垒。在4月11日外交部发言人陆慷主持人的例会记者会上，有记者问到，“荷兰某财经媒体报道称之为，荷兰半导体业ASML公司的中方高管盗取该公司商业机密，导致公司巨额损失，相提并论这些技术被泄漏给了中国政府。
中方否获知此事？回应有何评论？”陆慷答：我们注意到有关报导，但不理解你提及的具体情况。实质上，中国和荷兰在科技领域仍然维持着较好的合作。我们多次申明，中国政府高度重视知识产权维护。
我们向来拒绝海外的中国公民和企业遵从驻在国法律。至于中国自身，中国的科技发展一仅靠偷走，二仅靠抢走，是中国人民用自己的智慧和汗水，辛勤努力奋斗出来的。
ASML总裁倾听牵涉到到芯片和大国关系等敏感话题，ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink也是第一时间作出对此，ASML不表示同意它曾沦为“中国间谍”的受害者。“我们在或许上是国家阴谋的受害者的言论是错误的。
事实是，我们被硅谷的一小部分员工‘偷窃’，他们违背法律以‘损公肥私’。所有这一切都再次发生在几年前。
我们自己找到了这一点，并于2016年立刻在公共法庭谋求法律诉讼。在我们于2018年11月官司胜利后，在几份报导指出了这一观点，“Peter Wennink说道。ASML官方回应，这些享有各种国籍的员工盗取的掩模优化软件，是ASML产品和服务人组中的一小部分，目的是创立一个竞争产品并将其出售给韩国现有的ASML客户（应当是三星），XTAL的资金有一部分来自韩国。
目前尚能不确切2.33亿美元的赔偿金可以从现在倒闭的XTAL公司交还到什么程度。“我们不满任何有关此事件对ASML在中国开展业务有任何影响的建议。有些人刚好是中国公民，但其他国家的人也参予其中。
我们显然慎重地维护我们的专有科学知识，并且对信息安全十分脆弱。我们坚信，可以为还包括中国客户在内的所有客户获取服务，并协助他们创建业务。最近欧盟与中国之间的建设性谈判和协议令其中国强化认同和维护非中国公司的知识产权，还包括有效地的执法人员行动，当我们看见这些在中国法律和审判中获得构建时，我们回应深感激励”，温宁说道。
ASML官网资料表明，ASML在16个国家的60多个城市另设办事处，总部坐落于荷兰Veldhoven，员工多达23000名。非ASML不能？“生产要求消费”，ASML在半导体行业的地位就是这么不能代替，即便是英特尔、三星和台积电也不能等ASML供货。甚至在ASML的研发进展较慢时，三家大厂投资数十亿美元协助ASML研发EUV光刻工艺及18英寸晶圆，可见光刻机的门槛之低。
EUV光刻机透视图（节录ASML官网）顾名思义，光刻机就是用光来刻电路，光刻机（Mask Aligner) 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清除浸泡、涂底、复涂抹光刻胶、软烘、对准曝光、后蒸、底片、硬烘、光刻等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺），生产集成电路详细可以分成三步：利用模板除去晶圆表面的保护膜。将晶圆洗净在腐败剂中，丧失保护膜的部分被腐蚀掉后构成电路。
用纯水洗涤残余在晶圆表面的杂质。这个过程类似于照片底片，光线经过镜头把景物影象探讨在胶片上，胶片上的感光剂随光发生变化，胶片上受光后变化了的感光剂经显影液底片和定影构成和景物忽略或色彩有序的影象。光刻集成电路的载体出了晶圆，光学变为了电路。芯片被誉为工业石油，光刻机则被誉为半导体行业的明珠，目前ASML早已占有行业意味著统治者地位，一方面是高端工艺无人能及，另一方面是市场占有率十分低，追赶其后的尼康和佳能技术较之差距一两代。
2017年全球光刻机总销售294台，ASML销售198台，占据68%的市场份额。更高端的EUV光刻机方面，ASML占有率100%。
物以稀为贵，2017年ASML单台EUV机平均值售价多达1亿欧元，2018年一季度的售价堪称相似1.2亿欧元，但就这样还是有价无市，生产能力受限EUV光刻机中的EUV所指的是是波长13.5nm的极紫外光，普通的DUV光刻机用于的是193nm的浅紫外光，EUV光刻机可以大幅度提高半导体工艺水平，构建7nm及以下工艺，更加最重要的，这是半导体摩尔定律能延续下去的基础，当下摩尔定律并不是芯片设计的问题，纯粹是材料工艺度不合格，ASML需要获取更加仪器的设备，在产业的完全最上游。按照英特尔的规划，EUV光刻机本来早在2005年就应当投入使用，但是这似乎高估了材料学的可玩性，EUV波长仅有13纳米，光线能量和破坏性极高，制程的所有零件、材料，样样挑战工艺无限大，机械动作误差要以皮秒（兆分之一秒）计。对于志在发展国内半导体行业的我国来说，光刻机也是必需要突破的一环，2018年底，国家根本性科研装备研制项目“超强辨别光刻装备研制”29日通过竣工验收，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力超过22纳米，融合双重曝光技术后，未来还可用作生产10纳米级别的芯片。涉及文章：国产的SP光刻机究竟牛在哪儿？芯片进口总额突破3000亿美元，中国芯及AI芯片要强劲缺什么？挑战 Intel 和英伟达，高通公布 Cloud AI 100 边缘推理小说芯片原创文章，予以许可禁令刊登。
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